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Datenschutzhinweis


Die Fakultät für angewandte Naturwissenschaften und Mechatronik schätzt die Kommunikationsmöglichkeiten, die Soziale Medien bieten.
Sie macht jedoch darauf aufmerksam, dass bereits durch das Anklicken von Links zu diesen Diensten eine Übermittlung personenbezogener Daten erfolgen kann.

Dies ist unabhängig davon, ob Sie selbst Mitglied des sozialen Netzwerks sind oder nicht. Diese Daten könnten technisch zum Aufbau eines personenbezogenen Profils genutzt werden.

Die Fakultät für angewandte Naturwissenschaften und Mechatronik hat keine Kontrolle über die ausgelösten Vorgänge. Mit dem Anklicken dieser Links verlassen Sie den von der Fakultät kontrollierten und verantworteten Bereich. Beachten Sie auf jeden Fall die Datenschutzregelungen und -einstellungen der Anbieter.

@HAW_Muenchen_06


Vorlesungsverschiebungen

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@Vorlesung_FK06


Mikrosystemtechnik

Kurzbeschreibung:


Im Labor für Mikrosystemtechnik sind typische Halbleiterprozesse, wie Dünnschichtherstellung, optische Lithographie oder Ätztechnik möglich. Unten aufgeführt finden Sie eine Übersicht über die möglichen Verfahren.

Laborausstattung:


Der 65 m2 kleine Reinraum an der Hochschule München ist mit Laminarflowboxen (Reinraumklasse 10 - 100 am Arbeitsplatz) und einer Luftaufbereitung über Deckeneinlässe ausgestattet. Der Zugang erfolgt über eine Schleuse.

Im Labor Mikrosystemtechnik gibt es verschiedene kommerzielle Anlagen zur Prozessierung von Wafern (Si, GaAs, Lithiumniobat u.a.) in den Formaten 4'' = 100 mm Durchmesser bis teilweise 8'' = 200 mm Durchmesser. Möglich sind viele typische Halbleiterprozesse wie:
  • Fotolithographie (Kontakt, einseitig, beidseitig, bis ca. 1 Mikrometer)
  • Laserlithographie (bis 0,7 Mikrometer-Strukturen)
  • Ätztechnik (nass incl. KOH trocken: Barrel, Parallelplatten und RIE )
  • Oxidation (feucht und trocken bis 8'') und Diffusion (demnächst)
  • CVD (bis 6'') von TEOS, Poly-Si
  • Bedampfen (Al, Cu, Au, Cr, Ni),

Verschiedene Messtechniken sind möglich:
  • Ellipsometer, Spektralellipsometer
  • Reflektometrie
  • Mikroskopie mit Linienbreitenmessung
  • Konfokalmikroskopie
  • Weisslichtinterferometrie
  • Profilometer

Sonstiges:
  • Design
  • Polieren von 4''-Wafern
  • Sägen und Ritzen von Wafern
  • Inkjet-Druck elektronischer Strukturen

Themengebiete für Abschluss- und Projektarbeiten oder mögliche Kooperationen:


Themen für Projektstudien oder Abschlussarbeiten:
  • Messplatzerweiterung zur Charakterisierung von Datenspeicherzellen
  • Drucken resistiver Datenspeicherzellen
  • Charakterisierung resistiver Datenspeicher auf Basis porösen Siliziums
  • Drucken von Sensoren

Weitere Themen nach Absprache.

Labor-Homepage:

Raum:

D 206, D207

Tel:

089/1265-3630, 089/1265-3631

Laborleitung:

Prof. Dr.-Ing. Christina Schindler
Tel.: 089/1265-1639
christina.schindler hm.edu

Belegschaft:

M.Sc. Michael Kaiser
Tel.: 089/1265-3631
mikaiser hm.edu




Verantworlich für die Angaben der Laborseite: SC. Letzte Änderung: 2016-08-24 10:41:59

 

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